配制研磨液、抛光液、清洗液时，要严格按照配方比例配制
这是因为磨、抛工艺是一个严格的科学工作。尤其是抛光液，抛光液是由各种化学试剂和特定磨料所组成的。
抛光液对晶体片进行抛光时，不但有物理研磨现象，还有化学腐蚀现象。在抛光过程中，物理研磨速率与化学腐蚀的速率，达到一个平衡，才能抛光出好的晶体片来。
不按比例严格地进行配制的抛光液，就根本不能抛出好的晶体片来。同理，研磨液不按比例配制就达不到所要求的研磨效果。有时多用磨料，反而更差。
清洗液，本来是用来清洗加工好的晶体片子。如果配制不当，不但不能清洗加工好的晶体片子，而且还要腐蚀坏已加工好的晶体片子，好事办坏。
只有按科学的工作方法办事，严格按工艺办事，严格按配方的比例来配制研磨液、抛光液、清洗液，这样才能加工出高质量的晶体片子来。
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