配制研磨液、抛光液、清洗液时,要严格按照配方比例配制

这是因为磨、抛工艺是一个严格的科学工作。尤其是抛光液,抛光液是由各种化学试剂和特定磨料所组成的。
抛光液对晶体片进行抛光时,不但有物理研磨现象,还有化学腐蚀现象。在抛光过程中,物理研磨速率与化学腐蚀的速率,达到一个平衡,才能抛光出好的晶体片来。
不按比例严格地进行配制的抛光液,就根本不能抛出好的晶体片来。同理,研磨液不按比例配制就达不到所要求的研磨效果。有时多用磨料,反而更差。
清洗液,本来是用来清洗加工好的晶体片子。如果配制不当,不但不能清洗加工好的晶体片子,而且还要腐蚀坏已加工好的晶体片子,好事办坏。
只有按科学的工作方法办事,严格按工艺办事,严格按配方的比例来配制研磨液、抛光液、清洗液,这样才能加工出高质量的晶体片子来。


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