氧化铈稀土抛光粉的在抛光过程中的作用

氧化铈稀土抛光粉的在抛光过程中的作用

  历史上,人们曾用较为坚硬的碎石或天然砂粒将石器磨平抛光,以便石器更加实用和美观。随着陶器等产品的出现,人们更加注重对其表面的研磨和抛光,但是过程仍停留在原始的手工劳动。到中世纪末玻璃行业的兴起时,欧洲开始生产大块镜子时,对玻璃的研磨和抛光工艺得以快速发展,那时的玻璃研磨工艺,主要是在机床上进行。工业上逐渐将玻璃的冷加工划分为粗磨、细磨和抛光三个阶段。对玻璃进行化学机械抛光,可有效的提高玻璃工件表面质量,从而满足目前显示器玻璃,触摸屏等精密玻璃行业的抛光。
  关于对玻璃抛光的机理,目前还没有形成一个完全的统一理论,但是学术界也己有较多该方面的报道,主要有以下几点 :  
 1,有关机械作用的学说,在研磨过程中抛光是由于研磨设备之间的作用产生的;
 2,流变作用的学说(物理化学的学说),即摩擦使玻璃的表面塑性变形,或是摩擦产生的热软化至玻璃表面熔融而 流动,抛光是玻璃的表面分子经过重新分布最后形成平整表面的过程;
 3,机械、物理化学的学说,即玻璃抛光的过程是机械和物理化学作用的共同过程;
 4,化学作用学说,玻璃抛光是水、抛光材料、抛光垫和玻璃几者之间的综合化学作用的结果。目前,学术界比较 同意的一种意见是:抛光过程是机械、物理化学和化学的综合作用,其中机械的作用是基本,化学的作用是重 点,研磨过程中同时存在着流变现象。
 磨抛过程中玻璃的表面会形成软质层并与抛光粉中的抛光颗粒、抛光垫发生相互作用,该软质层的成分、厚度、硬度、以及摩擦发生的摩擦热都将直接参与研磨并影响材料的去除速率,软质层的成分、性质与玻璃的组成、水解的pH值及水解过程的参数紧密相关。
 提及抛光材料在磨抛玻璃时,首先是机械作用,去除玻璃表面的凹凸层。即此过程中,玻璃的表面会不断露出新的表面,新的表面极易会发生水解,在玻璃的表面会形成一层硅胶凝胶层,不溶于水,此硅胶薄膜会对玻璃有保护作用,并阻碍玻璃的进一步水解,硅胶薄膜的厚度一般在1. Snm}7.Onm,且在有COa存在的情况下,会发生如下(1.2)和(1.3)的水解反应:
         Na2SiOs+2H20=2NaOH+HZSiOs(1.2)
         2NaOH+COa=Na2COs+HaO(1.3)
 此时,抛光粉中Ce0:颗粒会去掉硅胶层,使玻璃形成光滑的表面,同时在机械的作用下,伴随着抛光粉颗粒的破碎。


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